器件和材料实验生产线,洁净面积为1000平方米,洁净度为1000级(局部100级),设计月处理能力300~600片3寸晶圆。
◇NIKON I7 步进式光刻机(0.5 µm )
◇MJB3光刻机(0.8 µm)
◇PECVD介质沉积设备
◇RIE反应离子刻蚀机
◇VPC-1100电子束蒸发台(4靶)
◇ICP-98C等离子体刻蚀机
StepperICP
RIE Ebeam Evaporator
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