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 器件和材料实验生产线,洁净面积为1000平方米,洁净度为1000级(局部100级),设计月处理能力300~600片3寸晶圆。

NIKON I7 步进式光刻机(0.5 µm )

MJB3光刻机(0.8 µm)

PECVD介质沉积设备

RIE反应离子刻蚀机

VPC-1100电子束蒸发台(4靶)

ICP-98C等离子体刻蚀机



Stepper
ICP



RIE Ebeam Evaporator



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